Nano Dip®镀膜仪ND-0407-S5

日本原装实验室/研发专用台式浸渍提拉镀膜仪, Z轴和X轴双轴控制,具有提拉角度调节功能。

ND-0407-S5日本最佳的超低速浸渍提拉镀膜仪,它可以通过控制工作两轴和θ角以及对角线提拉来调节提拉角度。


 

客户的需求:

Ø 对基材进行垂直、高精度、超低速镀膜

Ø  以改变提拉角度和溶液的密度对基材进行镀膜

Ø  两种液体交替对基材进行镀膜

Ø 在提拉途中,通过改变提拉速度来控制膜厚
 

ND-0407-S5能够满足客户的需求:

Ø 可以提供超低速的常规垂直镀膜

Ø 可以通过调整θ角来获取提拉角度

Ø 可以采用不同的液体(例如交替吸附等)进行镀膜

Ø 双轴可独立运动和复合运动操作

Ø 具有可以连续点运行的新功能

 
产品特点:

Ø  可以对玻璃、有机玻璃、铜箔、管状材料等基材以纳米速度(变速单位:1nm)进行浸渍镀膜。

Ø  适用于纳米级薄膜、蛋白石薄膜的形成和粒子阵列的生成等。

Ø  采用触控面板操作方式,在触控面板上,可以轻松完成设置速度变化点(最多16个点)、速度变化(1nm为单位)、重复运动、运动模式记忆(最多8个模式)的操作。

Ø  双轴同步操作和单轴单独运行操作都可以轻松完成。

Ø  触控面板采用日语、英语两种语言,且可以一键式切换。


产品应用:

Ø  主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料.

主要技术参数

行程

Z轴:100mmX轴:100mm

存储程序的数量

8个程序

最小速度(Min)

1nm/s

监控功能:当前速度

最大速度(Max)

60mm/s

监控功能:当前位置

操作方法

触控面板

剩余监控时间

屏幕显示语言

英语/日语

重复运行

处理速度指定数量

16

标准夹具

材料:聚丙烯(PP

停止位置指定数量

16

电源

AC100V300VA

停止时间指定数量

16

最大承重量

500g

连续运行模式

最大处理尺寸(mm

H100mm

手动运行模式

线性运行模式

设备尺寸(mm)

442(W)×250(D)×451(H)

控制箱尺寸(mm)

300(W)×285(D)×163(H)

※ 线性运行模式是指改变速度时,停止时间为零秒。

※ 手动运行模式是指以设定的速度进行上升/下降运行(上升速度和下降速度的另一种设置)。


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